濕(shī)法(fǎ)刻蝕機EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X濕(shī)法(fǎ)刻蝕又稱為濕(shī)化學刻蝕法(fǎ) 。它主要是借助刻蝕劑(jì)與待刻材(cái)料(liào)之間的(de)化學反(fǎn)應將待刻膜層溶解，以達到刻蝕的(de)目(mù)的(de) 。濕(shī)法(fǎ)刻蝕一般被用於工藝流程前(qián)面的(de)晶圓片準備(bèi)、清洗等不涉及圖(tú)形的(de)環節(jiē)。
濕(shī)法(fǎ)刻蝕機EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X濕(shī)法(fǎ)刻蝕又稱為濕(shī)化學刻蝕法(fǎ) 。它主要是借助刻蝕劑(jì)與待刻材(cái)料(liào)之間的(de)化學反(fǎn)應將待刻膜層溶解 ，以達到刻蝕的(de)目(mù)的(de)。濕(shī)法(fǎ)刻蝕一般被用於工藝流程前(qián)面的(de)晶圓片準備(bèi) 、清洗等不涉及圖(tú)形的(de)環節(jiē) 。
濕(shī)法(fǎ)刻蝕機EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X
適用工藝（包括但不限於下述濕(shī)法(fǎ)制程）
光刻膠(jiāo)顯影（KrF/ArF）
SU8厚膠(jiāo)顯影
顯影後清洗
PostCMP清洗
光罩去膠(jiāo)清洗
光刻膠(jiāo)去除
金屬Lift-off處理
刻蝕微刻蝕處理
適用基底的(de)尺寸(cùn)範圍
型號 | 可滿足尺寸(cùn)範圍 |
EDC-650-23 | 小於或等於 6英(yīng)寸(cùn)（150mm）直徑圓片或5x5英(yīng)寸(cùn)（125mm）邊長方片 |
EDC-650-8 | 小於或等於 8英(yīng)寸(cùn)（200mm）直徑圓片或7x7英(yīng)寸(cùn)（175mm）邊長方片 |
EDC-650-15 | 小於或等於12英(yīng)寸(cùn)（300mm）直徑圓片或9x9英(yīng)寸(cùn)（225mm）邊長方片 |
EDC-650-X | 可根據用戶特殊要求訂制設備(bèi)
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