紫外臭氧清洗機應用範圍：

光清洗技術的應用範圍十分(fèn)廣泛 ，在現代(dài)信息(xī)技術行業中(zhōng)使用光清洗技術比較普遍 ，隨(suí)著我國工業現代(dài)化的發展(zhǎn) ，光清洗和光改質技術還將逐步應用於(yú)金(jīn)屬、塑料、橡膠等(děng)工業生產領(lǐng)域 。

1 、在LCD 、OLED生產中(zhōng)
，在塗光刻膠、PI膠 、定(dìng)向膜(mó)、鉻膜(mó) 、色膜(mó)前經過(guò)光清洗 ，可以極大的提(tí)高基體表(biǎo)面(miàn)潤濕(shī)性(xìng) ，增強(qiáng)基體表(biǎo)面(miàn)的粘合力 ；

2、印制電路板生產中(zhōng)，對銅底板，印刷底板進行光清洗和改質 ，在導線焊(hàn)接前進行光清洗，可以提(tí)高熔焊(hàn)的接觸面(miàn)積(jī)，大大增加連接強(qiáng)度。特(tè)別是高精度印制電路板 ，當線距達到亞微米級時，光清洗可輕(qīng)易(yì)地去除(chú)在線距之(zhī)間很小的微粒，可以大大提(tí)高印制電路板的質量 。

3、大規模集成電路的密度越來越高 ，晶格的微細化越來越密，要(yào)求表(biǎo)面(miàn)的潔淨度越來越高，光清洗可以有(yǒu)效地實現表(biǎo)面(miàn)的原子清潔度 ，而且對芯片表(biǎo)面(miàn)不會造成損傷
。

4 、在半導體生產中(zhōng)，硅晶片塗保護膜(mó) 、鋁蒸發膜(mó)前進行光清洗，可以提(tí)高粘合力，防(fáng)止針孔、裂縫的發生。

5 、在光盤的生產中(zhōng) ，沈積(jī)各(gè)種膜(mó)前作光清洗准(zhǔn)備，可以提(tí)高光盤的質量 。

6、磁(cí)頭固定(dìng)面(miàn)的粘合 ，磁(cí)頭塗敷，以及提(tí)高金(jīn)屬絲的連接強(qiáng)度，光清洗後(hòu)效果(guǒ)更好(hǎo)。

7、石英晶體振蕩器生產中(zhōng)，除(chú)去晶體檢測後(hòu)塗層上的墨跡 ，晶體在銀蒸發沈積(jī)前 ，進行光清洗可以提(tí)高鍍膜(mó)質量和產品性(xìng)能 。

8、在IC卡表(biǎo)面(miàn)插裝(zhuāng)ROM前，經過(guò)光清洗可提(tí)高產品質量 。

9、彩色濾光片生產中(zhōng) ，光清洗後(hòu)能*洗淨表(biǎo)面(miàn)的有(yǒu)機污染物。

10、敷銅箔層壓板生產中(zhōng)，經過(guò)光照改質 ，不僅表(biǎo)面(miàn)潔淨而且表(biǎo)面(miàn)形成十分(fèn)均勻的保護氧化層 ，產品質量顯著提(tí)高。

11 、光學玻璃經過(guò)紫外光清洗後(hòu)，鍍膜(mó)質量更好(hǎo) 。

12 、樹脂透鏡光照後(hòu)，能加強(qiáng)與防(fáng)反射板的粘貼性(xìng)。

13 、對清除(chú)石蠟 、松(sōng)香、油脂 、人體體油、殘餘的光刻膠、環氧樹脂、焊(hàn)劑(jì) ，以及帶(dài)有(yǒu)氧化膜(mó)的金(jīn)屬表(biǎo)面(miàn)處理 ，去除(chú)導電聚酰亞胺粘合劑(jì)上的有(yǒu)機污染物，光清洗是十分(fèn)有(yǒu)效的方(fāng)法 。

14 、用於(yú)原子力顯微鏡應用相關的0硅和氮化硅探針等(děng)表(biǎo)面(miàn)處理。